光清洗燈一
所屬分類： 光清洗燈
低壓紫外汞燈發(fā)射的 185nm 和 254nm 波長的紫外光除有清洗去除物體表面的有機污染物的功能外，而且還能夠進行表面改質(zhì)。其基本原理為：光子能量把物體的表層分子鍵打開的同時拉出
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低壓紫外汞燈發(fā)射的185nm和254nm波長的紫外光除有清洗去除物體表面的有機污染物的功能外，而且還能夠進行表面改質(zhì)。其基本原理為：光子能量把物體的表層分子鍵打開的同時拉出H原子和C原子，與空氣中的氧氣分解出來的活性氧（O）生成極性很強的原子團（OH，CHO，COOH）即羥基等活性基，同時材料表面有機污染物的清洗效果顯著，活化的基體表面具有良好的粘合力和鍵合特性，這些羥基和涂料、粘合劑、電鍍材料相結(jié)合，形成新的化學鍵，從而使材料表面得到通常情況下得不到的很強的粘結(jié)強度，或者使材料得到穩(wěn)定的表面性能。
二、紫外光表面清洗和改質(zhì)技術(shù)的先進性
2.1光清洗技術(shù)是隨著當代光電子信息技術(shù)發(fā)展起來的，光電子產(chǎn)品的高性能、微型化要求表面潔凈度越來越高，常規(guī)的清洗方法（如水洗、化學溶液洗、超聲波清洗等）已不能滿足要求，UV光清洗能夠達到常規(guī)的清洗方法難以達到的高清潔度，而且不存在三廢處理問題，有利于環(huán)境保護。
2.2光清洗是在常溫、常壓的環(huán)境中進行的，是一種非接觸式的干法清洗技術(shù)。光清洗時被清洗的表面除了光子，不與任何物體發(fā)生接觸，因為有機物經(jīng)過紫外光照射發(fā)生光敏氧化反應后，生成可揮發(fā)性氣體（CO2、CO、H2O等）從表面消散，隨著排風系統(tǒng)抽走，不可能重返被清洗的表面，不會像溶液清洗時發(fā)生二次污染。
2.3一般情況下，光清洗的表面不會受到損傷，由于光子的能量相對比氬等離子體濺射或惰性氣體離子轟擊的能量小，光清洗后的表面不會受到損傷或發(fā)生晶體缺陷的現(xiàn)象。
2.4光清洗對物體表面微細部位（如孔穴、微細溝槽等）具有有效而徹底的清洗效果。由于紫外光是納米短波紫外線，能夠射入材料表面的極為細微的部位，發(fā)生光敏氧化反應，充分表現(xiàn)出光清洗的徹底性。
2.5先進工業(yè)化國家已經(jīng)開始將光清洗技術(shù)由光電產(chǎn)品向金屬、光學、塑料、橡膠等相關(guān)產(chǎn)品的生產(chǎn)過程發(fā)展，光清洗技術(shù)的應用范圍十分廣闊，具有很強的技術(shù)生命力。
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